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光學(xué)薄膜制備簡(jiǎn)介
時(shí)間:2021/5/31 10:24:03  瀏覽:

差之毫厘,失之千里。光學(xué)薄膜制備作為精密制造領(lǐng)域之一,其精密程度常常達(dá)到納米甚至微納級(jí)別,因此,其制備復(fù)雜程度是不言而喻的,有時(shí)候微小的失誤會(huì)導(dǎo)致滿盤(pán)皆輸,為薄膜制備帶來(lái)巨大困難。

光學(xué)薄膜制備簡(jiǎn)介

光學(xué)薄膜的制備是一個(gè)復(fù)雜的過(guò)程,它是通過(guò)將大塊固體材料蒸發(fā)或?yàn)R射,經(jīng)過(guò)氣相傳輸,最后在基板上凝結(jié)得到的,在其制備過(guò)程中,包括環(huán)境真空條件(真空度)、蒸發(fā)速率、基板溫度等多面的工藝因素的影響,對(duì)薄膜的微觀結(jié)構(gòu)和化學(xué)成分與理想狀況出現(xiàn)較大偏差,最終導(dǎo)致薄膜的機(jī)械性能、抗激光損傷閾值、光學(xué)性能的變化。


在眾多的工藝影響因素中,影響最大且易觀察的往往是薄膜的厚度均勻性,其會(huì)嚴(yán)重影響薄膜的物理性能,根據(jù)制備經(jīng)驗(yàn),薄膜的厚度不均勻會(huì)導(dǎo)致薄膜光譜性能產(chǎn)生較大偏移,比如,在增透膜的制備過(guò)程中會(huì)導(dǎo)致薄膜的透射率偏低,其次他還會(huì)影響薄膜的激光損傷閾值、薄膜應(yīng)力等等,正如文頭說(shuō)到的:差之毫厘,失之千里。因此在薄膜制備設(shè)備中,往往都配有精確度極高的膜厚監(jiān)控系統(tǒng)。


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